Vacuum deposition of thin films

Publication Title Name :Vacuum deposition of thin films.اسم عنوان المنشور
Publication year :Book 1956 سنة النشر
Publication Address :Holland, L.عنوان المنشور
Main Category :T التكنولوجياالفئة الرئيسية
Main & Sub Category :T التكنولوجيا | 671 أشغال المعادن والصناعات المعدنيةالفئة الرئيسية والفرعية
Vol :Vapor-platingالمجلد
Dewey Decimal Classification (DDC)No :DDC No not availableرقم تصنيف ديوي العشري
Article Title :Vacuum deposition of thin films.عنوان المقال
Statement of responsibility :With a foreward by S. Tolansky.بيان المسؤولية
Place of publication :New York,مكان النشر
Name of publisher :Wiley,اسم الناشر
Date of publication :1956 .تاريخ النشر
Publication Extent :541 p.نطاق النشر
Publication Dimensions :23 cm.أبعاد النشر
Topical term :Not Availableالمصطلح الموضعي
Leader :00708cam a22002411 4500رقم التصنيف
ISBN :الترقيم الدولى الموحد
Original BibID :NAالرقم الببليوجرافي
Date and time of last modification :1تاريخ و وقت آخر تعديل
General informatio :5عناصر البيانات ثابت
Cataloging Source :NAمصدر الفهرسة
DDC No :a)671.73رقم تصنيف ديوى
Personal Name :a)Holland, L.مدخل رئيسي لاسم شخص
The physical location of publication :a)Vacuum deposition of thin films. c)With a foreward by S. Tolansky.عنوان الوعاء
Publication data field :a)New York, b)Wiley, c)1956 .حقل بيانات النشر
physical descripti :a)541 p. b)illus. c)23 cm.حقل الوصف المادى
Topical term :a)Vapor-plating.رؤوس الموضوعات
Language Code :Language is uncertainرمز اللغة
Additional input :غير متوفرالمدخل الإضافي
Author Name :Holland, L.اسم المؤلف
Other data :لا يوجد بيانات اضافيةبيانات أخرى
Research topic :Vapor-plating.موضوع البحث

 

Articles